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プラズマの光で、未来が輝く！

プラズマは、固体・液体・気体に次ぐ、物質の第4の状態と言われており、気体状態となった物質（ガス）に対し、熱などのエネルギーを加えることにより、構成する分子がイオン化して非常に高いエネルギーを持った状態をいいます。

このプラズマのもつエネルギーを利用し、半導体製造プロセスは大きな進歩を遂げてきました。

今では、プラズマプロセスは、スパッタリング、エッチング、CVD（化学気相成長）、イオン注入装置などの半導体ウエハ・デバイス製造装置に欠かせない要素であり、これにより、高精度な加工を可能にし、より高性能な半導体素子の製造を実現しています。
プラズマプロセスは、まだまだ未知の部分も多く、今後も大きな発展に寄与するでしょう。

私たち、株式会社StarPlasmaは、プラズマの持つ無限の可能性を信じ、お客様のニーズや社会の発展のため、プラズマ技術を取り入れた研究開発に取り組んでいきます。